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隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，對各種原材料的“純度”要求越來越高。在電子工業(yè)中如何正確選用孝感高純氣體？然而，高純度氣體的量通常較小且昂貴。因此，如何正確、恰當(dāng)?shù)刂贫ㄔ蠚獾募兌纫笠约叭绾芜x擇高純度氣體已成為一個有爭議的問題。妥善處理這一問題將對技術(shù)和經(jīng)濟(jì)產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。

一般來說，人們通常使用百分比濃度來表示氣體的純度，即所謂的“9”表達(dá)式。例如，99.9%的特定氣體濃度表示其含有0.1%的雜質(zhì)（即雜質(zhì)含量為1000 ppm）。根據(jù)一般概念，很明顯，濃度為99.995%的氣體比99.99%的氣體更純凈，人們似乎更喜歡它。然而，如果純度的選擇僅限于此，這將對科學(xué)研究或生產(chǎn)產(chǎn)生負(fù)面影響。如果只考慮這些因素，顯然忽略了兩個主要因素，即高純度氣體的價格和所含雜質(zhì)的危害性。

我們都知道，價格上漲的速度快于指數(shù)增長，氣體純度越高，價格越高，并且隨著“9”的增加。

很難獲得七種“9”或更多的超高純度氣體。除了在實驗室提供零件外，在一般工業(yè)生產(chǎn)中很難提供大量零件。因此，數(shù)字為“9”的純氣體在一般生產(chǎn)中是完全不可接受的，除非它可以在科學(xué)研究中有條件地被接受。

因此，我們應(yīng)從氣體中雜質(zhì)的濃度和雜質(zhì)對工藝的危害性的角度選擇使用高純度氣體。這是因為很難將氣體中的雜質(zhì)總量降至lppm以下，但重要的是將單個有害雜質(zhì)降至L×10-9或更低。根據(jù)當(dāng)前工藝水平，硅中的總雜質(zhì)含量不低于10-8（1ppm）。然而，對磷和硼等有害電活性雜質(zhì)的單獨控制已達(dá)到1×10-8～l×10-10。（即o.1o.o1ppb）

因此，國外并不是簡單地用幾個“9”來表示高純度氣體，而是直接用不同的目的來命名高純度氣體的程度。如光譜純值、原子平面、電子平面、半導(dǎo)體平面、太陽能電池平面、外延平面、VLSI平面（VLSI平面）、研究平面等。它們僅表示材料水平適合于特定現(xiàn)場站的使用，并不意味著雜質(zhì)量必須小于某個值。正如化學(xué)試劑一般分為G.R.，A.R.，和C.P.，這僅意味著它們的純度“優(yōu)異”，“可用于分析”和“只能用于一般化學(xué)試劑”。這并不一定意味著材料或試劑的總雜質(zhì)含量已降低到某個數(shù)量級。同一水平的不同材料或試劑中包含的雜質(zhì)量有時可能會變化幾個數(shù)量級。根據(jù)材料的用途選擇材料的純度，使我們能夠選擇目標(biāo)明確的材料，克服盲目性。